磁控溅射膜中“4+3”和“4+4”表示膜系的结构和厚度。首先，“4”指的是钛靶材（Ti）的溅射时间，其形成一层TiN薄膜。接下来，“3”或“4”指的是氮气（N2）的溅射时间，其与TiN反应形成TiAlN薄膜。因此，“4+3”表示TiN（4秒）/TiAlN（3秒）的双层结构，而“4+4”表示TiN（4秒）/TiAlN（4秒）的三层结构。这些膜系中的不同厚度和组成提供了独特的性能，例如耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性，广泛应用于金属切割、成型和保护涂层等领域。